美能光伏科普 | TopCon电池工艺流程的细节(下)
我们上期介绍了TopCon太阳能电池中清洗制绒、硼扩散等一些工艺流程的目的和原理,本期「美能光伏」将给大家工艺流程中的一些细节。
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磷扩
目的:对poly层进行磷掺杂
原理:

氧气的存在下,POCl3在高温下分解成五氯化磷(PCl5)和氧化二磷(P2O5),反应式:

生成的P2O5在扩散温度下与硅反应,生成二氧化硅(SiO2)和磷原子,反应式:

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正面刻蚀
工艺流程:
正刻槽(加水膜)→水洗→碱洗→水洗→ 酸洗→水洗→烘干
正刻槽作用:
主要通过HF+HNO3的混合溶液,对硅片正面和边缘进行刻蚀,以达到去除正面及边缘BSG的作用。
碱洗槽作用:
主要用来中和正刻槽残留的酸液,并去除正刻槽反应生成的多孔硅。
酸洗槽作用:
去除氧化层,使硅片表面疏水。
槽体及功能

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ALD(原子层沉积技术)

通过时间或空间间隔,使衬底交替暴露于不同的反应前驱体氛围中,当衬底处于前驱体A的氛围中时,前驱体A通过化学吸附保持在衬底表面,前驱体A吸附饱和后达到稳定状态,不会再进行进一步化学吸附。当基底暴露于前驱体B氛围时,前驱体B就会与已吸附于基底表面的前驱体A发生反应。两个前驱体之间会发生反应并产生相应的副产物,直到表面的第一前驱体完全消耗, 反应会自动停止并形成需要的原子层。
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正背膜
硅片表面形成一层Si3N4薄膜,既可作为减反射膜,增加对光的吸收,同时,在 SiNx 薄膜形成过程中产生的氢原子对硅片具有钝化作用;又因其结构致密保证硅片不被氧化;
硅片置于阴极上,利用辉光放电使硅片升温到预定的温度,然后通入适量的SiH4和NH3气体,经一系列化学反应和等离子体反应,在样品表面形成固态Si3N4薄膜;

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金属化
工艺流程
背面印主栅→烘箱→背面印副栅→烘箱→正面印主栅→烘箱→正面印副栅→烧结炉→高温退火炉→测试;
其中正、背面印刷均采用分步印刷方式,印刷流程图示如下:

烧结目的
干燥硅片上的浆料,燃尽浆料的有机组分,使浆料和硅片形成良好的欧姆接触。
把电极烧结在PN结上,高温烧结可以使电极穿透氮化硅膜,形成合金。
正面主栅不烧穿氮化硅,减少金属对氮化硅层破坏,提高开压。
银的熔点960.7℃,Ag-Si共熔点为 600~800℃

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美能3D显微镜ME-PT3000是一款高速共聚焦扫描显微镜 ,可用于精确可靠的3维(3D)测量。通过快速光学扫描模块和信号处理算法可实现实时共聚焦显微图像。
ME-PT3000 3D显微镜专用于光伏行业对光伏电池片表面的栅线及绒面进行质量检测的光学仪器。以光学技术为原理、结合精密Z向扫描模块、3D建模算法等对器件表面进行非接触式扫描并建立表面3D图像,通过系统软件对光伏电池片上的栅线的高度与宽度、绒面上的金字塔数量进行定量检测,以反馈光伏电池片清洗制绒、丝网印刷工艺质量。

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